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真萍科技电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex阿摩利亚气体)破坏，解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线，解决液晶的受潮问题，解决线路板受潮问题。氮气监控系统：1.1、2.3”LED大屏幕数字显示湿度/温度。1.2、温湿度显示值0.1％-99.9％RH，温度显示值0.1℃-60.0℃。1.3、温湿度收集采准确传感器，长距离传输无误差。1.4、湿度控制：2.4.1利用湿度设定值来控制氮气流入，到达湿度设定值即停止进气，节省氮气耗用。2.4.2湿度在1％-60％RH可调整。1.5、温湿度记录功能：2.5.1内建内存，可储存温度/湿度，收集时间1~240分钟可自行设定。2.5.2可利用RS232连接阜下载至计算机中读取。2.5.3品管记录格式设计，有助于内部记录追踪并可支持数据库档案格式。1.6、湿度警报系统：1.6.1可设定启动警报的湿度值及条件，内配蜂鸣器（90分贝）及闪烁警示功能。1.6.2可另外选配积层式警示灯。1.7、温湿度偏移校正功能：内建校正功能，确保显示准确度。欢迎致电合肥真萍科技咨询工业烤箱相关知识。合肥工业烤箱专卖

冷气历经工业电炉加温带上能源后经风管进到工业烤箱的烘干箱个人工作室.工业烤箱的暧风循环系统系统有益于提升气体溫度的匀称性,在工业烤箱配电箱门运输原材料的全过程中,溫度会遭受危害产生变化,暧风循环系统系统的匀称性则有益于在大快速率内修复工作态度的溫度值. 订制等1.定做生产能力明确规格规格型号，考虑生产要求，生产能力高。能够 挑选履带工业烤箱，便是大家说风干生产线、隧道炉、固化炉。溫度挑选比具体应用溫度高10度就可以。依据加工工艺规定，测算好具体规定的温度差，以确保烤制的实际效果。举例说明：假如应用溫度是150度、220度、440度，按*高设计方案溫度500度做。4个溫度，如果是同一种商品。操纵上好采用晶闸管。合肥大工业烤箱工业烤箱的重要组成部分有哪些？

恒温恒湿试验箱的控制系统可说是整个设备的心脏，掌管着制冷、制热、控湿、循环、控制等大权。在制冷方面，压缩机是采用德国进口的压缩机。制冷系统由高温部分和低温部分组成，每一部分是一个相对单独的制冷系统。高温部分中制冷剂的蒸发吸收来自低温部分的制冷剂的热量而汽化；低温部分制冷剂的蒸发则从被冷却的对象(试验机内的空气)吸热以获取冷量。高温部分和低温部分之间是用一个蒸发冷凝器联系起来，它既是高温部分的冷凝器，也是低温部分的冷凝器。加热系统采用完全单独的镍铬合金电加热式，电阻率大、电阻温度系数小，在高温下变形小且不易脆化，自身加热温度可达1000～1500℃，使用寿命长。加湿是恒温恒湿试验箱不同于高低温试验箱的相当主要一部分，恒温恒湿试验箱采用外置隔离式，全不锈钢锅炉式浅表面蒸发式加湿器。祛湿方式采用机械制冷祛湿，将空气冷却到温度以下，使大于饱和含湿量的水汽凝结析出，这样就降低了湿度。送风循环系统：空气循环系统由耐温低噪音空调型电机，多叶式离心风轮构成。它提供了试验机内空气的循环。

工作原理：空气循环系统采用双电机水平循环送风方式，风循环均匀高效。风源由循环送风电机（采用无触点开关）带动风轮经由电热器，而将热风送出，再经由风道至烘箱内室，再将使用后的空气吸入风道成为风源再度循环，加热使用。确保室内温度均匀性。当因开关门动作引起温度值发生摆动，可介此送风循环系统迅速恢复操作状态温度值。老化试验箱采用国外先进的加热气流方法，解决了原转盘式的温度不均匀先天缺陷，同时提高了试样放置的安全性，有效空间利用率是原转盘式的200%以上，适用于电子元件，橡胶零部件等材料在高温下的老化适应性试验。工业烤箱的功能具体介绍。

高温无氧固化烘箱用途介绍：无氧干燥箱应用于航空、航天、石油、化工、、船舶、电子、通讯等科研及生产单位，主要作BPO胶/PI胶/BCB胶固化，模压固烤、IC（晶圆、CMOS、Bumping、TSV、MENS、指纹识别）、FPD、高精密电子元件、电子陶瓷材料无尘烘干，电工产品、材料、零备件等的高温洁净和无氧环境中干燥和老化试验。1、技术指标与基本配置：1.1使用温度：RT～260℃，极限温度：300℃；1.2炉膛腔数:2个,上下布置；1.3炉膛材料：SUS304镜面不锈钢；加热元件：不锈钢加热器；热偶：K分度1.4温度和氧含量记录:无纸记录仪；2、氧含量（配氧分析仪）：2.1高温状态氧含量：≤10ppm+气源氧含量;低温状态氧含量：≤20ppm+气源氧含量2.2控温稳定度：1℃；2.3温度均匀度：2%℃（260℃平台）；有哪些领域需要使用工业烤箱？合肥做工业烤箱

合肥哪家工业烤箱值得信赖呢？合肥工业烤箱专卖

HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。合肥工业烤箱专卖